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鋅鎳合金電鍍 |
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詳細信息 | ||
鋅鎳合金電鍍 二.工藝參數: 成分及操作條件 氯化鋅(ZnCl2) 氯化鎳(NiCl26H2O) 氯化銨(NH4Cl) 三乙醇胺(三乙醇胺含量 80–85%) 氨水(用于調節 pH) 添加劑 A 添加劑 B 溫度 pH 值 陰極電流密度 DK(用于掛鍍) 鎳陽極面積/鋅陽極面 積 鋅/鎳含量比 攪拌方式 過濾 含 量 50–65 g/L 140 g/L 220–230 g/L 25 g/L 適量 50 ml/L 10 ml/L 35–38℃ 5.35– 5.60 2 2–4 A/dm 1∶2.0–2.5 0.7–0.9 陰極移動 連續或間歇過濾
三.配制方法
后再依次加入氯化鎳、 氯化鋅、 三乙醇胺、 開缸劑(添加劑 A)及輔助光亮劑(添加劑 B)。
A/dm2 陰極電流密度下進行,預電解時 間一般為幾小時至幾十個小時,直至鍍層達到銀白色為止。
著電鍍的進行,鍍液的 pH 值緩慢的上升,用鹽酸調整之。 的影響,必須嚴格加以控制。該鍍液的適宜 Zn/Ni 比最好控 制在 0.7–0.9 范圍內。Zn/Ni 比過高(≥1.0),當槽液溫度 較低(≤35℃)與 陰極電流密度較小(≤1.5 A/dm2)的情況下,鍍層呈灰色。反之,Zn/Ni 比過 低(≤0.5),鍍層的 鎳含量有可能超過 15%,對提高鍍層的耐蝕性不再有益, 而脆性增加。鍍液 Zn/Ni 比可通過化學分析或其它簡單方法予
以測定。根據測定 結果及變化趨勢及時調整鋅陽極與鎳陽極的面積比。
38℃。
密度,加大鍍層沉積速度,縮短電鍍時間。掛鍍一般選擇 2– 4 A/dm2,滾鍍為 1.0 A/dm2 左右。
出現凹凸不平及氣流狀條紋。反之,添加劑 C 不足則鍍層光亮性不足。 |